射頻等離子清洗原理

文章出處：本站 | 網站編輯：深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-04-27

等離子體定義

所謂等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成，是物質的第四態。人們普遍認為的物質有三態：固態、液態、氣態。區分這3種狀態是靠物質中所含能量的多少。給氣態物質更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。

射頻等離子清洗原理

射頻等離子清洗設備的原理是利用真空腔體產生真空負壓，在真空狀態下，工藝氣體壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小。在5～10Pa氣壓范圍內利用頻率為13.56MHz、1000W功率（功率范圍）的射頻電源產生的高壓交變電場將O2、Ar2、H2或CF4等工藝氣體的分子之間化學鍵打斷，激蕩成具有高活性或高能量的離子團，該等離子團具有很高的動能，與有機污染物、微顆粒污染物或金屬氧化層反應或碰撞形成易揮發性物質，然后通過真空泵產生的負壓管道氣體流將這些揮發性物質抽出，從而達到持續高精密清潔、活化器件表面的目的。

射頻等離子清洗物理清洗和化學清洗兼具

等離子清洗用氧氣會被激發成活性粒子，其主要祛除的是有機物如油脂等。這些活躍粒子與待清洗器件的雜質生成化學反應，變成易揮發的、極小的如水分子、二氧化碳分子等，然后被抽真空泵排出。氧氣等離子清洗的致命缺點是清洗完的器件容易生成新的氧化物，變成二次污染。氬氣等離子清洗是用氬分子快速沖撞待清洗器件表面，靠其速度快、能量高使雜質脫離器件表面。氬氣屬于惰性氣體，在等離子清洗中屬于物理反應，其優點在于器件可以保持表面物質的化學性能不被改變，沒有二次污染產生。

等離子清洗技術是利用等離子體中各粒子的能量，通過化學或物理方式作用于物體表面，改善物體表面狀態的工藝過程。不同等離子體電源會產生不同頻率的等離子體，產生不同的作用效果。13.56MHz射頻等離子體在物體表面既可以產生物理作用，又可以產生化學作用，射頻等離子清洗技術是能夠替代目前所采用的濕化學方法的一種真正綠色手段，也為工業清洗技術開辟了嶄新的一頁。