等離子清洗機主要技術參數分析

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-06-02

等離子清洗技術是利用等離子體高能轟擊、活化反應等物理化學方法，將污染物從工件上剝離去除的一種工藝方法。根據等離子清洗的原理及工藝特點，分析知等離子清洗機主要清洗關鍵工藝參數包括清洗氣體種類、清洗壓力、射頻功率、清洗時間等。

等離子清洗機主要技術參數分析如下：

1）工藝氣體選擇及清洗機理
清洗氣體的選擇是等離子清洗最關鍵的因素，工藝氣體選擇和清洗機理主要分以下幾種：

氬氣和氮氣：氬氣與氮氣都屬于不活潑氣體，利用高速粒子沖擊進行物理清洗。通過物理撞擊破壞基板分子鍵，提高表面微粗糙度。

氧氣和氫氣：氧氣化學性質比較活潑，具有較強的氧化性，氧氣等離子清洗主要是通過與污染物發生氧化反應來清洗物質表面，實現表面狀態改性。氫氣化學性質活潑，具有很強的還原性，在清洗過程中可以將氧化物還原實現清洗作用。

混合氣體：將不活潑氣體與活潑氣體進行組合，可以同時利用物理過程和化學反應實現多重清洗效果。比如清洗采用氬氣與氫氣混合氣體，首先通過氬氣沖擊使物體表面結構活化，再通過氫氣的還原作用清洗，可以增加粗糙程度，增強結合強度。還原性、氧化性、物理清洗三種清洗原理示意圖如圖1所示。

氫氣、氧氣、氬氣三種氣體等離子清洗三種原理

（2）清洗壓力
清洗壓力描述的是等離子清洗機密閉腔體內的壓強，氣體物質在真空狀態下外加高頻電場，會出現輝光放電現象，成為等離子體，當等離子體將被清洗基板包圍便開始清洗，真空環境有助于反應進行，利用清洗過程，一般控制真空狀態壓強10Pa左右，清洗壓強不超過100Pa。

（3）射頻功率及清洗時間
清洗射頻功率與清洗時間都是等離子清洗十分重要的工藝參數，一般對于同一基板來說，在保證能夠激發的前提下，一定范圍內射頻功率與清洗時間成反比例關系，射頻功率越大，清洗時間越短；射頻功率越小，清洗時間越長。

以上就是國產等離子清洗機廠家納恩科技關于等離子清洗機主要技術參數分析的簡單介紹，不同的工藝參數設置直接影響等離子體清洗效果,因此針對不同的清洗對象和制程要求應該設置適當的工藝參數以便進行清洗。可以利用正交試驗法對等離子清洗機工藝參數進行優化，得出最佳的等離子清洗工藝參數。