請輸入產品關鍵詞搜索
在干法刻蝕中,感應耦合等離子體(Inductively Coupled Plasma簡稱ICP)刻蝕法由于其產生的離子密度高、蝕刻均勻性好、蝕刻側壁垂直度高以及光潔度好,逐漸被廣泛應用到半導體工藝技術中。
人工客服
感谢您的关注,请填写一下您的信息,我们会尽快和您联系。