腔體式等離子清洗機的基本結構組成

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2023-05-31

典型的腔體式等離子清洗機(如下圖1.1)，其結構組成一般包括反應腔體和電極架系統射頻與匹配系統、抽真空系統、電氣系統和程序控制系統，需要操作員手動上下料，其它抽真空、射頻激發、關閉、充氮氣等過程均為全自動過程。腔體式等離子清洗機具有單次清洗產量大，清洗中無卡料等報警發生的特點。

腔體式等離子清洗機

以下就腔體式等離子清洗機的各部分結構組成做一個簡單說明

1、反應腔體及電極架系統
等離子清洗之前需要對腔體進行抽真空，使用油泵或者干泵，必要時使用增壓泵，抽到真空度為0.2Torr以下時，開始等離子體放電，從而進行等離子清洗清洗期間，為了保證腔體內氣壓穩定，真空泵需要一直運作。

2、射頻匹配系統
射頻匹配系統包含射頻發生器和匹配箱，射頻發生器是等離子體激發的核心部件,利用射頻發生器輸出可控能量激發清洗氣體產生等離子體國際上普遍采用的工作頻率為13.56MHZ，射頻輸出功率范圍是0-1000W可調。

射頻發生器與反應腔體之間必須配備匹配箱才可以實現阻抗匹配，其匹配作用有:增加放電負載吸收電源提供的能量，保護射頻發生器以防止功率反射而導致射頻發生器損壞，從而提高系統的效率及穩定性能。

3、電氣控制系統
腔體式等離子清洗設備電氣控制系統包含電路控制系統、氣動控制系統、可編程邏輯控制系統、信號采集以及人機界面。

4、主程序控制頁面
主程序控制頁面菜單欄包含有參數管理、產品數據庫管理、安裝管理、報警管理等板塊，可以查看各部分參數的設置情況，查看設備運行狀態，也可以進行手動清洗、自動清洗切換。

傳統的腔體式等離子清洗機采用射頻電容耦合方式產生等離子體(CapacitorCoupledPlasma，CCP)，并且采用平行內電極式放置電極板，可以產生大面積均勻等離子體。等離子體清洗技術可以用來清洗各種材料，使用先進數控技術、自動化程度高清洗設備可有效控制處理效果，可大幅提高產品良品率，生產成本卻反而下降。只要等離子體的能量控制在合理范圍內，便不會有損傷材料表面的情況發生，產品表面質量可以得到保障，而輕度的表面損傷(即表面粗化)還會增強材料表面的粘附力。