等離子清洗技術在OLED制備過程中的應用

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2023-10-04

有機發光二極管（organiclightemittingdiode，OLED）是一種電流型的有機發光器件，通過載流子的注入和復合而發光的現象。在電場的作用下，陽極產生的空穴和陰極產生的電子就會發生移動，分別向空穴傳輸層和電子傳輸層注入，遷移到發光層。當二者在發光層相遇時，產生能量激子，從而激發發光分子最終產生可見光。整個器件結構層中包括：空穴傳輸層（HTL）、發光層（EL）和電子傳輸層（ETL）。其制備工藝可以分為小分子OLED工藝技術和聚合物PLED工藝技術兩大類。小分子OLED通常采用蒸鍍技術進行制備；PLED一般采用溶液涂布的方式。OLED顯示技術具有自發光、廣視角、幾乎無窮高的對比度、較低耗電、極高反應速度等優點，近些年得到了非常快速的發展

盡管OLED有諸多優點，但是在制備過程中仍需要克服一些加工問題，其中最為關鍵的即為清洗。例如，在玻璃基板加工前需要對其表面進行清洗，如果玻璃表面帶有污染物，其表面自由能變小，從而導致蒸鍍在上面的空穴傳輸層發生聚集，導致成膜不均。

等離子清洗技術

等離子體又稱之為plasma，被視為是除去常見的固、液、氣之外物質存在的第四態，呈離子化氣體狀。根據等離子體自身的熱平衡狀態，等離子體可以分為兩類，分別為熱平衡等離子體和非熱平衡等離子體。非熱平衡態等離子體也稱為低溫等離子體，適用于多種材料的表面清洗改性。

等離子體清洗是通過電源激發等離子體轟擊基材表面，在轟擊的過程利用物理沖擊可以去除吸附在基材表面的微顆粒，同時可能造成基材表面的微刻蝕；因此可以用于基材的超精密清洗。等離子體在轟擊基材表面的污染物時，還可以與污染物進行反應，形成容易揮發的物質，利用真空抽走，對基材表面的有機物殘留具有較好的去除作用。等離子體清洗的最大特點是：大部分處理對象的基材類型，均可以進行處理。

ITO作為OLED器件中常用的陽極材料，其表面的平整性及清潔性對器件性能有著重要的影響。然而，由于ITO基片采用光刻蝕工藝制備，在此過程中有機物會不可避免地殘留在其表面。此外，一些粒徑為微米級的灰塵、油污以及微生物等污染物還常存在于其表面。這將直接破壞后續有機功能層的連續性和致密性，降低器件性能。因此，需要清洗ITO基片并進行表面處理，除去污染物以提高基底的表面潤濕性。

氧等離子不僅可以改變ITO表面的化學組成,提高功函數等，還能徹底清除玻璃基片殘留的有機物，以便于其他功能層更好地沉積成膜，對OLED器件性能具有較好的提升作用。